活性屏等离子体源渗氮工艺特性及传质机制

摘要：

为揭示活性屏等离子体源渗氮工艺特性(试样偏压电位和试样距屏高度)对AISI 316奥氏体不锈钢渗氮效果的影响规律,利用最小二乘法线性回归拟合了不同工艺条件下渗氮层厚度数据,绘制了活性屏等离子体源渗氮AISI316奥氏体不锈钢的工艺特性图,以此确定其最佳工艺参数.并通过对金属网屏上溅射颗粒的化学成分和相结构分析,探讨了活性屏等离子体源渗氮的传质机制.结果表明:渗氮层厚度随试样距屏高度增大而降低,当适当降低渗氮气压或试样施加一定负偏压时,均有助于提高渗氮层的厚度,并且证实了“溅射-再沉积”模型是活性屏等离子体源渗氮重要的传质机制.

关键词：活性屏等离子体源渗氮、奥氏体不锈钢、工艺特性、线性回归、传质机制

所属期刊栏目：31

分类号：TG156.82(金属学与热处理)

资助基金：营口理工学院优秀科技人才支持计划2018003

在线出版日期：2018-12-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：92-98