脉冲峰值电流对HIPIMS/DCMS共沉积制备AlCrTiN涂层性能的影响

摘要：

利用HIPIMS与DCMS共沉积技术制备AlCrTiN复合硬质涂层,通过调控AlCr靶脉冲峰值电流来制备不同峰值电流下的AlCrTiN涂层.采用XRD、SEM等分析手段表征不同峰值电流下AlCrTiN涂层的组织结构及微观形貌;通过纳米压痕、真空退火、高温摩擦磨损试验分析涂层的力学性能、热稳定性能及摩擦学性能.结果表明:AlCrTiN涂层为典型的面心立方结构,随峰值电流的增加,(111)及(200)晶面呈现竞争生长的状态;随真空退火温度上升,各涂层硬度值出现明显下降.1 000℃退火后,各涂层硬度维持在17 GPa附近;随摩擦环境温度的上升,各涂层摩擦因数整体呈下降趋势;280A所制备涂层因高温抗氧化性能及磨屑排出能力的不足导致其高温磨损率迅速增加,800℃下其磨损的主要形式为氧化磨损和粘着磨损.

关键词：高功率磁控溅射、直流反应磁控溅射、共沉积、组织结构、力学性能、耐磨性能

所属期刊栏目：29

分类号：TG174.44(金属学与热处理)

在线出版日期：2016-11-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：56-65