微弧氧化小阴极放电及膜层均匀性

摘要：

针对微弧氧化工艺中小功率电源大面积处理或局部腔体处理问题,研究小阴极微弧氧化工艺方法.采用550 V恒压模式,阳极为(φ)70 mm×0.5 mm的纯铝样件,阴极为(φ)15 mm不锈钢棒,浸没到硅酸钠基的电解液内的长度可变,探讨放电伏安特性和膜层厚度、表面形貌以及电化学行为的均匀性.结果表明:小阴极可以实现微弧氧化,但小阴极增加了阴极-阳极间放电的等效阻抗,会造成微弧放电较弱、成膜速率较低,微弧氧化样品的径向膜层厚度和耐蚀性呈现不均匀性,靠近样品边缘膜层较厚,中心区域膜层较薄;增加阴极尺寸,膜厚均匀性从74％(阴极深入20 mm)提高到78％(阴极深入40 mm),同时膜层的耐腐蚀区域加大.结果对于小功率电源大面积微弧氧化和腔体内部微弧氧化具有重要的指导意义.

关键词：微弧氧化、小阴极、均匀性、耐腐蚀性、涂层厚度

所属期刊栏目：28

分类号：TG174.45(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金31370979;黑龙江省高校创新团队建设计划项目2012TD010

在线出版日期：2015-07-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：70-75