沉积时间对钼薄膜结构和热疲劳性能的影响

摘要：

采用直流磁控溅射在不同沉积时间条件下制备钼薄膜,并用电子束热负荷装置对薄膜进行热疲劳性能试验,利用X射线衍射仪(XRD)对其结构和残余应力状态进行测试分析,用扫描电镜(SEM)对钼薄膜热疲劳前后形貌进行表征.结果表明:薄膜沿(110)取向择优生长,呈柱状晶结构,薄膜内存在张应力,残余应力随沉积时间增加而逐渐减小.热循环试验后均未出现薄膜脱落现象,但均产生表面裂纹.随着沉积时间由4h增加至8h,疲劳裂纹由穿晶断裂的直线裂纹转变为沿晶开裂的曲折裂纹,同时成膜过程中的退火效应使薄膜的晶粒长大、晶粒结构更加趋于完整、残余应力减小,从而使薄膜疲劳裂纹减小.

关键词：钼薄膜、磁控溅射、热疲劳、电子束

所属期刊栏目：27

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

在线出版日期：2014-07-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：10-14