10.3969/j.issn.1007-9289.2013.02.011
直流磁控溅射法在玻璃基片上制备TiN薄膜
采用直流反应磁控溅射法在玻璃片上制备了TiN薄膜,研究不同制备工艺条件与薄膜性能之间的关系.用紫外-可见光分光光度计测试了不同沉积时间和N2流量条件下TiN薄膜透光率;用X射线衍射仪分析了不同N2流量和溅射功率条件下TiN薄膜结构;用扫描电镜(SEM)观察了TiN薄膜的表面腐蚀形貌,用恒电位仪对TiN薄膜的耐腐蚀性进行了分析.结果表明:当沉积时间为2 min,N2流量为15 mL/min时,在可见光区有较高的透光率,在近红外区的透光率很低;当N2流量为15 mL/min,溅射功率为4 kW时,TiN薄膜的结晶最致密;当溅射功率为4 kW时,TiN薄膜具有较好的耐腐蚀性.
TiN薄膜、直流反应磁控溅射、透光率、耐蚀性
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TG174.444(金属学与热处理)
2013-05-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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