美国西南研究院等离子全方位离子镀膜技术研究及实际应用

摘要：

文中介绍了美国西南研究院(Southwest Research Institute-SwRI)等离子全方位离子镀膜技术(PIID)的最新研究成果.SwRI从实际应用出发,在等离子表面工程领域成功研发了一些新技术,PIID技术为其中一种.近几年来,SwRI研究的重点为类金刚石(DLC)涂层的高速率沉积,制备超厚DLC涂层用于提高工件的耐磨性和耐腐蚀性能、憎水DLC涂层以及长管道内表面的镀膜技术.与传统的脉冲辉光放电(PGD)技术不同,SwRI基于空心阴极放电(HCD)等离子技术研发了一套独特的镀膜技术,同时讨论了HCD技术的原理,并对HCD和PGD技术制备DLC涂层的实验结果和这两项技术的实际应用进行了讨论.最后,对该技术最新的研究方向进行了展望.

关键词：DLC、脉冲辉光放电、空心阴极放电、管道内壁镀膜、冲蚀、磨损、腐蚀

所属期刊栏目：25

分类号：TG174.442(金属学与热处理)

在线出版日期：2012-05-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：1-10