10.3969/j.issn.1007-9289.2011.04.004
过渡层对铜基金刚石薄膜的影响
采用热丝化学气相沉积(HFCVD)在纯铜基体及4种不同的过渡层(Ti、Nb、Ni、W)上制备金刚石薄膜.利用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、拉曼光谱仪(Raman)以及维氏硬度计对金刚石薄膜进行检测分析,研究了不同过渡层对金刚石薄膜形貌质量和附着性能的影响.结果表明,在纯铜基体以及多种过渡层上都能制备高纯度的金刚石薄膜;在形核率较高的基体上金刚石颗粒的尺寸较小,在Ni过渡层上金刚石颗粒的尺寸较大;金刚石薄膜在Ti过渡层上结合性能最好,但是非金刚石相最多.在Nb、W过渡层上的结合性能最差.
金刚石薄膜、铜、过渡层、化学气相沉积、附着性能
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TG174.444;TB43(金属学与热处理)
2011-12-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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