非平衡磁控溅射沉积类石墨碳膜结构及其摩擦学性能

摘要：

利用非平衡磁控溅射技术在单晶硅基底上沉积了类石墨非晶碳膜.利用X射线光电子光谱、Raman光谱、高分辨透射电子显微镜及原子力显微镜对沉积薄膜的微观结构进行了详细表征;利用纳米压痕仪和球盘摩擦试验机分别对其力学性能和摩擦学性能进行了测试.结果表明,当前制备的非晶碳膜中sp2杂化碳占主导呈现出类石墨特征,但薄膜硬度可达14.2 GPa.大气环境中的摩擦性能测试表明,所制备的类石墨非晶薄膜具有优异的摩擦学性能:其承载能力高达2.8 GPa,同时具有较低摩擦因数(～0.05)和磨损率(～10-111cm3/Nm).类石墨碳膜优异的摩擦学性能主要归因于其独特的结构、较低的内应力及良好的热稳定性.

关键词：类石墨碳膜、磁控溅射、摩擦磨损

所属期刊栏目：24

分类号：TG115.58;TG174.444(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金50705093,50575217;创新群体基金50421502;国家"973"计划2007 CB607601

在线出版日期：2011-10-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：17-22