10.3969/j.issn.1007-9289.2010.04.012
偏压对45钢离子渗氮行为的影响
在直流脉冲等离子体渗氮炉内放置一由双层圆筒组成的活性屏,双层圆筒与阴极相接,由于其直径不同可以产生空心阴极放电.将45钢试样放置在活性屏内,一组试样处于悬浮状态,另一组试样施加负偏压(-50~-150 V),同时在400~550℃下进行离子渗氮处理.并用金相显微镜、XRD和显微硬度计对渗氮层进行对比分析.结果表明:偏压显著影响渗氮层的组织结构和性能.偏压试样渗氮层与悬浮试样相比,具有更厚的化合物层,表面硬度更高,扩散层更厚.
离子渗氮、45钢、偏压、空心阴极放电
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TG156.8(金属学与热处理)
2010-10-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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