10.3969/j.issn.1007-9289.2010.04.006
Cr掺杂及Cr过渡层对类金刚石薄膜附着力的影响
采用线性离子束复合磁控溅射的混合PVD技术制备了含Cr过渡层以及Cr掺杂的DLC薄膜,并测量了其厚度、残余应力、结合力、摩擦因数等性能.划痕测试的结果表明,增加过渡层后薄膜的结合状况得到了明显改善,其残余应力也有所下降,Cr掺杂的DLC薄膜残余压应力最低可达0.23 GPa.有关结果为强膜基结合力、低应力、大面积的类金刚石薄膜可控制备提供了新的技术思路.
类金刚石膜、Cr掺杂、过渡层、结合力、残余应力
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TG174.444(金属学与热处理)
浙江省科技攻关重点项目2009C11S550048;浙江省科技支撑面上项目2008C21054
2010-10-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
26-28,34