离子束增强沉积Ti-Mo多层膜和TiMo合金膜及其性能

摘要：

采用离子束增强磁控溅射沉积技术制备了Ti-Mo金属多层膜和TiMo合金膜,评价了膜层的结合强度、韧性、硬度等力学性能和摩擦学性能.结果表明:不同调制周期及不同调制比的Ti-Mo多层膜的硬度均比Ti、Mo金属单层膜的硬度高,调制周期小于200 nm的多层膜呈现出明显的超硬度现象,调制周期为20 nm的多层膜硬度达到最大值,多层膜硬度随Ti膜:Mo膜调制比的减小而提高.Mo过渡层比Ti过渡层更能有效改善膜层的结合强度,离子辅助轰击能明显提高膜层的结合力.TiMo合金膜的硬度与Mo金属单层膜相近,明显低于调制周期20～200 nm的Ti-Mo多层膜,其韧性也明显低于调制周期60 nm以上的Ti-Mo多层膜.调制周期20～200 nm的Ti-Mo多层膜的耐磨性能优于TiMo合金膜.

关键词：Ti-Mo多层膜、TiMo合金膜、硬度、磨损、腐蚀磨损

所属期刊栏目：23

分类号：TG115(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金50671085,50771070;国家863高技术研究发展计划2007AA03Z521

在线出版日期：2010-10-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：15-21