O2/(O2+Ar)比对磁控溅射La-Sr-Mn-O薄膜沉积速率的影响

摘要：

采用直流磁控溅射技术,在不同的O2/(O2+Ar)体积比条件下于Si(100)基片上沉积La-Sr-Mn-O薄膜,结合扫描电子显微分析研究了O2/(O2+Ar)比对薄膜沉积速率的影响.结果表明:薄膜厚度均匀,O2/(O2+Ar)比是影响薄膜沉积速率的重要因素.基体温度和溅射气压较高时,薄膜沉积速率随O2/(O2+Ar)比增加呈抛物线规律下降,O2/(O2+Ar)比由4.4%增加到45.6%,沉积速率减小量可达52.8%;基体温度和溅射气压较低时,薄膜沉积速率随O2/(O2+Ar)比增大呈指数规律下降.薄膜沉积速率下降是由于被溅射原子/离子与氧原子/离子的碰撞几率随氧气含量增加而增大,从而降低了被溅射粒子的能量,使到达基片的粒子数减少.

关键词：薄膜、磁控溅射、沉积速率

所属期刊栏目：21

分类号：O484.1;TB34(固体物理学)

资助基金：新世纪优秀人才支持计划资助

在线出版日期：2008-07-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：11-14