常压下MOCVD法制备Al2O3薄膜工艺的研究

摘要：

在常压条件下,采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统在Fe-Cr-Ni合金基片上沉积Al2O3薄膜.以仲丁醇铝(ASB)为原料,纯氮为载气,研究基片温度、ASB温度和载气流量对沉积速率的影响.采用EDS、SEM技术对Al2O3薄膜的组成进行分析.研究表明,ABS温度为125 ℃的工艺条件下,薄膜厚度为500 μm,结合强度是梯度涂层(NiAl和Al2O3的梯度沉积)的结合强度的两倍.

关键词：化学气相沉积、氧化铝、沉积速率、薄膜

所属期刊栏目：20

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

在线出版日期：2007-07-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：47-50