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10.3321/j.issn:1007-9289.2006.z1.061

氧化钒薄膜的电学性质研究

引用
采用离子束溅射和退火工艺,在K9玻璃基体上制备了氧化钒薄膜,并对其微观形貌及组成进行了研究.SEM结果表明,所制备的氧化钒薄膜均匀致密,晶粒尺寸达纳米量级,平均约50nm.由XPS分析可知,薄膜中钒的价态为+4价和+5价,薄膜由VO2和V2O5组成.自行研制了一套实时测量、动态显示测量结果的电阻-温度关系测试系统.应用该测试系统测量了薄膜电阻随温度变化的关系曲线,发现所制备的氧化钒薄膜具有显著的电阻突变特性,其低温段的激活能为0.3106eV,25℃时的电阻温度系数为-0.0406K-1.

氧化钒、薄膜、电学性质

19

TB3(工程材料学)

2007-04-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

241-243

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1007-9289

11-3905/TG

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2006,19(z1)

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