非平衡磁控溅射结合电弧离子镀制备掺杂DLC硬质膜性能研究

摘要：

将非平衡磁控溅射和电弧离子镀工艺相结合,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Q、掺杂Ti和N的DLC薄膜.对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构,硬度达到HV(20g)2600以上,摩擦因数接近0.1,电阻高于2MΩ.

关键词：硬质膜、DLC、非平衡磁控溅射、电弧离子镀、霍尔离子源

所属期刊栏目：19

分类号：O4(物理学)

在线出版日期：2007-01-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：43-46