低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能比较

摘要：

采用低温磁控溅射和普通多弧离子镀分别在冷作模具钢基体上制备了TiN 薄膜,用纳米压痕法测量了薄膜的表面硬度,并比较了低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能.试验表明,低温磁控溅射TiN薄膜具有与普通多弧离子镀TiN薄膜相近的表面硬度,在多种试验条件下,低温磁控溅射TiN薄膜都有较好的摩擦学性能,摩擦副的磨损率低,摩擦因数小且变化平稳,磨损表面光滑.

关键词：低温磁控溅射、多弧离子镀、TiN薄膜、摩擦学性能

所属期刊栏目：19

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

在线出版日期：2006-04-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：12-15,20