用离子源技术制备类金刚石膜研究

摘要：

采用无灯丝离子源结合非平衡磁控溅射的方法,大面积地在不同基体上制备了光滑、均匀的类金刚石(DLC)膜层,用SEM、Raman、XPS、硬度计、划痕仪等手段分析和研究了膜层的形貌、结构及部分性能.结果表明:钛的掺入,有利于减少内应力、提高膜/基结合力,膜层的综合性能好,更适合于精密器件的表面改性.

关键词：类金刚石膜、无灯丝离子源、非平衡磁控溅射、大面积

所属期刊栏目：18

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2005-11-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：16-19