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10.3321/j.issn:1007-9289.2003.06.009

电沉积技术制备纳米SiO2/Ni复合镀层工艺的研究

引用
利用电沉积方法制备了纳米SiO2/Ni复合镀层.研究了阴极电流密度、微粒浓度、pH值、搅拌方式和表面活性剂种类以及浓度等对镀层沉积速率的影响,为正确制定电镀工艺提供了依据.扫描电镜观察表明,纳米微粒的加入增加了镀层表面的不工整性.

电沉积、复合镀层、纳米材料、纳米SiO2/Ni

16

TQ153

2004-01-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

31-34,41

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1007-9289

11-3905/TG

16

2003,16(6)

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