电弧离子镀沉积TiN/AlN-TiAlN复合膜的耐磨性

摘要：

采用高纯铝、钛靶材,通过电弧离子镀工艺在TC4基材上沉积制备了TiN/AlN-TiAlN复合多层膜,用HV-1000型显微硬度计测试了膜层的硬度,用球盘磨损试验对比研究了膜层和基材的耐磨性.结果表明:膜层硬度为2 856 HV,耐磨性相比基材提高6倍以上.

关键词：电弧离子镀、复合膜、耐磨性

分类号：TG174.44(金属学与热处理)

资助基金：广西制造系统与先进制造技术重点实验室开放基金项目桂科能0842006_035_K

在线出版日期：2010-04-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：1-2,10