10.3969/j.issn.1673-1433.2023.05.012
MPCVD制备金刚石的研究
金刚石在材料家族中是集力、光、电、声、热、磁于一身的最优秀的材料.它不仅在工程领域中得到了广泛应用,而且在功能应用中也是大有作为的材料.因此,吸引着国内外广大科技工作者对其进行研发的极大欲望.文章简要地介绍了多晶金刚石薄膜、大尺寸单晶金刚石(Single Crystal Diamond—SCD)合成过程中的腔体压强大小、基体温度的高低、衬底材质与表面粗糙度等工艺参数以及饰钻培育的形核、生长质量等技术问题的研究结果.通过实践分析得到了高温形核-低温生长的梯度规律和腔体内压强和基体温度低或过高都不利于生长出高质量金刚石薄膜的规律.
化学气相沉积、微波等离子体、金刚石、多晶薄膜、大尺寸单晶、质量、基体温度、衬底材料
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TQ164
2023-11-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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