金刚石半导体商用加速

摘要：

近日,日本千叶大学的科学家宣布他们已经开发出一种使用激光制造金刚石晶片的方法,有望为下一代半导体提供助力.
虽然目前硅仍然是半导体的主要材料,但是氮化镓、碳化硅宽带隙使半导体材料能够在更高的电压、频率和温度下更有效地发挥作用.随着电动汽车采用的加速,对宽带隙的碳化硅元件需求也是越来越大.

机标关键词：金刚石半导体

所属期刊栏目：35

分类号：TN304.18

在线出版日期：2023-10-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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