磨粒分布对轨迹非均匀性影响的理论分析

摘要：

轨迹分析方法是衡量研磨抛光过程中材料去除非均匀性的一种重要研究手段,通过对研磨抛光过程进行磨粒运动轨迹分析,可以为其工艺参数的优化选取提供重要参考依据.文章采用轨迹分析方法,基于轨迹分布非均匀性的量化指标,对研磨抛光工具表面的不同磨粒分布进行分析.从磨粒在工具表面的均匀、统计、周向、径向分布等角度揭示磨粒分布对轨迹分布非均匀性的影响规律,为研磨抛光过程中工具的磨粒分布设计和工艺参数优化提供理论依据.

关键词：轨迹分析、研磨抛光、非均匀性、磨粒分布

所属期刊栏目：29

分类号：TQ164

资助基金：国家自然科学基金51675193福建省自然科学基金2016J01235;华侨大学研究生科研创新能力培育计划资助项目1511303011

在线出版日期：2017-10-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：27-31