直流电弧等离子体喷射法高速制备高质量纳米金刚石膜研究

摘要：

利用直流电弧等离子体喷射法沉积装置在底径Ф65mm高5mm的Mo球面衬底上成功制备出纳米金刚石薄膜,文章研究了在稳定电弧状态下碳氢比对金刚石膜形貌的影响.通过扫描电子显微镜、原子力显微镜及Raman光谱对样品的晶粒尺寸及质量进行了表征. 研究结果表明: 在稳定电弧状态下,通过提高碳氢比可以在Mo球面衬底上的表面高速沉积出高质量的纳米金刚石薄膜, 晶粒尺寸大约为4～80nm,平均粒径27.4nm.

关键词：纳米金刚石膜、直流电弧等离子体喷射法、碳氢比

所属期刊栏目：20

分类号：O484;TQ164(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金50275076

在线出版日期：2009-02-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1-4