纳米金刚石表面准原子层沉积硅镀层

摘要：

采用准原子层沉积(Quasi Atomic Layer Deposition-QALD)技术在纳米金刚石表面沉积硅镀层.通过硅烷气体在纳米金刚石颗粒表面饱和吸附,然后原位热解的分步反应实现了硅镀层对纳束金刚石的完整包覆.实验使用TEM、XRD、FTIR和TGA-DSC等分析方法研究了镀硅纳米金刚石的形貌、结构、表面吸附状态和热稳定性.结果表明,SiH4气体循环吸附-热解的QALD方法可在纳米金刚石颗粒表面形成均匀连续、厚度可控的硅镀层.热解反应温度为600℃时,硅镀层为立方相.纳米金刚石镀硅后,热稳定性显著提高,温度升高到1000℃也没有明显的氧化反应发生.

关键词：纳米金刚石、硅镀层、准原子层沉积、热稳定性

所属期刊栏目：19

分类号：TQ164

在线出版日期：2008-05-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1-5