彩色Si3N4陶瓷的金刚石涂层

摘要：

分析了Si3N4二次相变化对化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜生长的影响.氮化硅基底是将生坯试样放入Si3N4/BN粉末床内,通过无压烧结而成.经X射线衍射和导热试验证实,烧结气氛的局部变化会导致试样具有不同的灰度和化学物理性能,从而影响金刚石薄膜生长.对薄膜,包括厚度、平均晶粒度、表面粗糙度、织构和附着强度等进行了全面的表征.与玻璃相含量不多的陶瓷基底沉积的金刚石薄膜相比,含有玻璃相的Si3N4基底的薄膜厚度大、晶粒度小、薄膜与基底的附着强度高.

关键词：金刚石薄膜、氮化硅、等离子体CVD、显微组织、陶瓷基底

所属期刊栏目：17

分类号：TQ164

在线出版日期：2006-03-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：48-52