基于分析晶体成像投影偏移研究

摘要：

投影偏移将严重影响基于分析晶体成像系统的信息提取精度和图像质量.从基于分析晶体成像系统的原理出发,建立了光路模型,分析了产生投影偏移的主要原因,计算机模拟研究了投影偏移对折射角信息提取的影响.结果表明,投影偏移主要由分析晶体本征摇摆曲线宽度和折射角所产生.本征摇摆曲线宽度将导致相邻像素之间的射线随分析晶体的摇摆相互偏移,当样品未被射线完全覆盖时,边界像素的摇摆曲线将出现形变,虚像素将出现计数并形成畸形摇摆曲线.折射角引起的投影偏移将使摇摆曲线形状和高度发生改变,随折射角增大,出现像素错位,其影响折射角信息提取的正确性.本征摇摆曲线宽度和折射角共同产生投影偏移并影响折射角信息的提取.

关键词：X射线成像、相位衬度、投影偏移、摇摆曲线、折射角

所属期刊栏目：53

分类号：TL99

资助基金：兰州大学中央高校基本科研业务费专项资金资助项目lzujbky-2016-208,lzujbky-2016-32;兰州大学"创新创业教育基地、协同育人基地"建设资助项目860632

在线出版日期：2019-05-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：351-359