沟槽型X射线两次衍射单色器研究
为获得高能量分辨率、高准直的同步辐射光,应用X射线衍射动力学原理,并依据上海光源小角散射线站光学参数,设计并加工了两次衍射的单晶硅(111)面沟槽型单色器.测量了两反射面平行度、斜切角及摇摆曲线,并对摇摆曲线的测量值进行了误差分析.理论模拟与实验数据对比分析显示:有效减小晶体加工过程中的残余应力导致的晶格畸变、改善晶体形貌、调整斜切角与增加衍射级次可降低晶体的衍射角宽,进而提高出射光的准直性和能量分辨率.经计算,在同步辐射光能量为10 keV条件下,单晶硅(111)面沟槽型单色器的本征能量分辨率为1.452×10-4.
X射线光学、高分辨率、两次衍射、沟槽型单色器、摇摆曲线
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TL544;TH744(加速器)
国家自然科学基金资助项目11175243
2017-12-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共7页
2085-2091