CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究

摘要：

采用反应磁控溅射技术在单晶硅基片上制备了CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜,利用非极化中子和X射线反射对膜层厚度、膜层界面粗糙度、界面扩散等表面、界面结构和性质进行了系统研究.中子反射测得的CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜的厚度与设计厚度的差别为3.8%~4.2%.散射长度密度(SLD)分析结果表明,膜层间和膜层与基底间界面较为清晰,扩散较少.X射线反射测得的膜层厚度较中子反射测得的膜层厚度偏高,对于较小调制周期的多层膜,界面弥散会对X射线反射结果产生较大误差.

关键词：中子反射、CrAlN/TiAlN多层膜、界面结构

所属期刊栏目：50

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：中国工程物理研究院中子物理学重点实验室开放基金资助项目2014BB05

在线出版日期：2017-06-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1112-1117