核级不锈钢焊接接头钝化膜耐蚀性能和半导体特性研究

摘要：

采用电化学阻抗谱（EIS）、场发射扫描电子显微镜（SEM）、Auger扫描能谱仪（AES）以及容抗测试技术（M‐S曲线），研究了316LN／316L不锈钢焊接接头在模拟压水堆一回路高温高压水中形成的钝化膜的耐蚀性能和半导体特性。结果表明，焊缝区、热影响区和母材区形成的钝化膜的耐蚀性能不同，热影响区钝化膜开路电位及电化学阻抗等均低于其他区域，说明热影响区钝化膜的耐蚀性能最差，这主要与钝化膜的致密程度、厚度及 Cr 氧化物的含量有关。M‐S 曲线表明，母材区钝化膜平带电位为－0.7 V ，较其他区域（－0.4 V ）负移，表明有BO3－等阴离子在钝化膜表面吸附，加之具有较低的施主和受主浓度，可排斥侵蚀离子的腐蚀，使之较其他区域有更强的耐蚀性能。

关键词：316LN/316L不锈钢、焊接接头、钝化膜、电化学阻抗、耐蚀性能、半导体特性

分类号：O646;TL341(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家科技重大专项资助项目2011ZX06004-017，2011ZX06004-009-0402

在线出版日期：2015-03-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：316-323