铀表面磁控溅射镍镀层的电化学腐蚀行为研究

摘要：

采用磁控溅射离子镀膜技术在贫铀表面制备金属镍镀层，利用电化学测试技术研究了镍镀层在Cl－溶液中的电化学腐蚀行为。结果表明：在含50μg／g Cl－的KCl溶液中，镍镀层的腐蚀电位－100.8 mV高于贫铀的腐蚀电位－641.2 m V ，相对于贫铀是阴极性镀层，对贫铀的保护基于对腐蚀介质的物理屏障；镀镍贫铀样品的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀，其腐蚀电流远小于贫铀；约70 h的连续腐蚀实验中镍镀层未出现镀层破裂、剥落现象，且腐蚀电位、电流保持稳定。说明镍镀层对贫铀基体具有良好的防腐蚀性能。

关键词：贫铀、磁控溅射、镍镀层、电化学腐蚀

分类号：TL214.6(核燃料及其生产)

在线出版日期：2014-12-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1938-1942