176Hf(n,2n)175Hf反应截面测量
采用相对测量技术,以活化法对13.4~14.8 Mev范围内的176Hf(n,2n)175Hf反应截面进行了测量.样品固定在距离D-T中子源20cm处的圆环的不同位置上进行中子辐照,采用93Nb(n,2n)92Nbm作为监测反应,活化产物采用高纯锗探测器进行了测量,所得14 MeV附近的176Hf(n,2n)175Hf反应截面实验值为(2 100±85)mb,对实验结果与公开文献值和ENDF/B6.8评价库数据进行了比对.
Hf、反应截面、相对测量
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O571.435(原子核物理学、高能物理学)
2011-01-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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