UO2薄膜制备和光学常数及厚度测定
利用磁控溅射法制备了UO2薄膜,通过扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪及X射线衍射仪,对薄膜进行了分析和表征.利用反射光谱法测得了薄膜在400~1 200 nm波长范围内的反射率.通过对反射图谱进行数据拟合,得出UO2薄膜在450~950 nm波长范围内的折射率为2.1~2.65,消光系数约0.51,厚度为637 nm.
UO2、薄膜、反射光谱、厚度、光学常数
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TL99
2011-01-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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