直流磁控溅射钛及钛合金薄膜的性能研究
用直流磁控溅射的方法在Si及Mo基片上制取Ti及其Ti合金薄膜.研究了基片温度等镀膜工艺参数对薄膜性能的影响,并用XPS、XRD、SEM分析薄膜的化学组成和结构特征,对薄膜的生长模式进行分析.结果表明,合金的加入降低了晶粒尺寸;升高温度可增大薄膜晶粒尺寸,改善薄膜结合能力;合金膜的成分与靶材基本一致.
钛、薄膜制备、磁控溅射
42
O484.1(固体物理学)
国家自然科学基金资助项目50471078
2008-12-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
933-937