近场条件下X射线位相衬度成像方法及其模拟

摘要：

近场条件下的类同轴法位相衬度成像具有边缘突出效应,其强度分布与相位分布的拉普拉斯算子有直接关系.在近场成像过程中,成像距离决定了成像质量的好坏.本工作通过一维模拟几种具有特定几何构型样品的菲涅耳衍射图样,得到近场条件下最适宜的成像距离,并通过二维模拟验证了此结论.

关键词：位相衬度成像、菲涅耳衍射、传播函数

所属期刊栏目：41

分类号：O434.12(光学)

资助基金：国家自然科学基金10475044

在线出版日期：2007-03-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：36-40