10.3969/j.issn.1000-6931.2005.02.017
CHN薄膜的制备
文章简要描述了空心阴极等离子体化学气相沉积(HPCVD)的原理,以及用HPCVD方法制备CHN薄膜的工艺和实验结果.用XPS和AFM分别分析了CHN薄膜中C和N的成分及表面形貌,并得到了一定条件下的薄膜沉积速率.
空心阴极等离子体化学气相沉积、CHN、薄膜、XPS
39
O484.5(固体物理学)
国家惯性约束核聚变技术研究项目0344020
2005-05-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
176-178