10.3969/j.issn.1000-6931.2005.02.008
伴随粒子法测量T(d,n)4He中子源注量率中的本底处理
T(d,n)4He反应单能中子源广泛应用于14 MeV中子的各种物理实验.采用伴随粒子法测量中子注量率,用金硅面垒探测器测量α粒子,用1 μm厚Al箔屏蔽散射的d束,经过各种条件下的调节,系统可很好地直接在能谱上分辨各种粒子,从而获得较高精度的中子注量率.
T(d、n)4He反应、中子注量率、金硅面垒探测器、伴随粒子法
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O571.54(原子核物理学、高能物理学)
2005-05-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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