10.3969/j.issn.1000-6931.2002.04.030
同位素铁靶制备技术
介绍了同位素铁靶的制备技术,包括氧化铁的还原、铁粉的熔化和铁靶的制备.采用聚焦束溅射和滚轧制备技术能获得自支撑56Fe靶的最小厚度分别为50和360 μg/cm2.
氢气还原、滚轧、聚焦束溅射
36
O484.1(固体物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
401-402,453
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10.3969/j.issn.1000-6931.2002.04.030
氢气还原、滚轧、聚焦束溅射
36
O484.1(固体物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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