10.3969/j.issn.1000-6931.2002.04.025
Ti/Mo膜的X射线光电子能谱分析
利用X射线光电子谱仪(XPS)分析和Ar+刻蚀相结合的方法,分析了Ti膜表面的化学元素及相应原子的电子结合能.分析结果表明:Ti膜及膜材料样品表面有大量的C、O元素;膜表面存在从衬底扩散至Ti膜的Mo元素.对样品刻蚀后Ti 2p的XPS谱进行拟合表明:Ti膜表面的Ti由TiO2(约100%)和单质Ti组成,随刻蚀时间的增加,部分TiO2还原至低价Ti;薄的薄膜表面中的Mo由单质Mo和MoO3组成,而厚的薄膜以单质Mo为主;表面C由石墨态和结合能为288.2~288.9 eV的碳化物组成.
Ti膜、X射线光电子谱仪、离子刻蚀、结合能
36
O484.5(固体物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
384-387