二维正弦调制靶的图形转移研究

摘要：

根据惯性约束聚变分解实验的要求,通过激光干涉法在光刻胶表面制备正弦起伏图形,结合电镀图形转移工艺,获得了波长20～100 μm、振幅0.2～3.5 μm的一系列Ni基图形转移模板,并进一步将正弦起伏图形转移到聚苯乙烯薄膜表面,制备出聚苯乙烯二维调制箔靶.研究了图形的精确转移工艺,特别是深振幅样品的脱模工艺,对工艺参数的优化进行了讨论.采用台阶仪和原子力显微镜监控图形转移过程,比较了光刻胶表面图形和一次、二次电镀转移图形以及转移到聚苯乙烯薄膜上图形的形貌,测定了图形转移过程中的深度变化.

关键词：平面调制靶、电镀、图形转移工艺

所属期刊栏目：36

分类号：TL639(受控热核反应（聚变反应理论及实验装置）)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划863-416-3-3.6

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：327-330