沉积TiB2薄膜的电极真空绝缘性能实验研究

摘要：

利用由一定结构的球面（阴极）-平板（阳极）组成的真空间隙，模拟特种电真空器件中电极间的微放电过程。用离子束辅助沉积（IBAD）法，在阴极球面上沉积出高结合强度的晶化TiB2薄膜。实验证明：在高达1000℃的温度下，相比不锈钢材料，薄膜表面几乎不被氧化；在单次脉冲高压作用下和在经受数百次高能微粒子轰击后，仍呈现出弱放电特征，既提高了耐压能力，又降低了脉冲电源的动态负载。

关键词：微放电模拟、表面改性、单次放电电流参数

所属期刊栏目：35

分类号：O484.5;O484.1(固体物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：179-183