基于氨溶析出法制备高纯钨粉的研究

摘要：

高纯钨被用作靶材以及高精密集成电路导体制造等,对纯度要求极高(5N～6N).本文运用高通量试验方法提纯制备APT,采用多温区管式炉对APT原料进行热解离处理后氨溶,利用原位XRD和常规XRD对不同温度热解离的APT进行物相分析,结合正交设计对试验参数进行优化获得最优的氨溶处理条件,经过多次溶解-过滤-清洗-析出循环达到纯化目的后,对APT进行煅烧还原得到高纯钨粉,用辉光放电质谱法对纯化前后物料进行纯度分析.通过3次氨溶解析出循环后的APT在含5％体积分数的氢气氮气混合气氛下800℃还原10 h可以完全被还原,得到纯度为5N、平均颗粒尺寸为670 nm的W粉.本研究为高纯氧化钨和钨粉的制备和工艺的优化提供了研究方法和参照依据.

关键词：高纯W粉、提纯方式、仲钨酸铵、热解离温度

所属期刊栏目：39

分类号：O657.63;R457.1+2;Q523

资助基金：云南锡业集团控股有限责任公司横向课题;教育部工程研究中心开放基金;云南省科技厅重大科技专项;云南省科技厅重大科技专项;国家自然科学基金;国家自然科学基金

在线出版日期：2022-08-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：157-164