灯丝/基体距离对金刚石涂层质量的影响

摘要：

热丝CVD法金刚石膜生长中基体温度对金刚石薄膜的质量有很大的影响,而基体与灯丝的距离决定着基体沉积温度的高低.本实验采用单一变量法,在其它工艺参数不变的情况下,研究不同基体与灯丝距离对CVD金刚石涂层的质量的影响.采用扫描电镜、Raman光谱、洛氏硬度计对试样的表面形貌、成分和涂层与基体的结合力进行测定.结果表明,当采用两步法基体预处理,在碳源体积浓度为2％、沉积气压为3kPa、反应功率为4 kW时,得到最优金刚石涂层质量的热丝与基体的距离为5 mm.

关键词：基体温度、涂层质量、基体与灯丝距离、基体预处理

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资助基金：国家自然科学基金51172278;北京市教委共建产业化项目2010-583;教育部博士点基金项目20120023110016;常州市领军型创新创业人才项目

在线出版日期：2014-03-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：316-320