氮气流量对反应磁控溅射TiN薄膜微结构与力学性能的影响

摘要：

利用磁控溅射镀膜技术分别在硬质合金YG6X和单晶Si片表面制备TiN薄膜,分析N2流量对薄膜相组成、表面形貌、显微硬度和膜基结合力的影响.结果表明,N2流量对薄膜的微结构以及力学性能具有重要影响.随着N2流量的降低,TiN薄膜表面孔洞和台阶明显减少,表面平整度得到明显改善；薄膜的物相组成在N2流量为0.2sccm时为TiN和TiN0.61两相；N2流量的变化改变了薄膜表面的能量状态,因此,降低N2流量导致TiN薄膜的生长取向由(200)面向(111)面转变.同时,N2流量为2.4 sccm时TiN薄膜的膜基结合力最高,此时TiN薄膜也具有最高的显微硬度.

关键词：磁控溅射、TiN薄膜、N2流量、硬度、结合力

所属期刊栏目：29

分类号：O48;TG1

在线出版日期：2012-12-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：203-207