10.3969/j.issn.1003-7292.2010.01.002
TiN单层和TiN/Ti(C,N)多层涂层的结构和性能研究
借助XRD、SEM、纳米压痕和划痕仪研究了采用磁控溅射在硬质合金基体上沉积的TiN单层和TiN/Ti(C,N)多层涂层的组织结构和力学性能.研究表明:TiN与TiN/Ti(C,N)多层涂层的晶粒形貌均呈柱状晶结构,而TiN/Ti(C,N)多层涂层形成了TiN、Ti(C,N)交替的调制结构.由于界面强化作用,TiN/Ti(C,N)多层涂层表现出比TiN更高的硬度及与基体更好的结合力.
TiN/Ti(C、N)多层涂层、微观结构、硬度、结合力
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TG1;TH1
2010-05-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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