磁控溅射制备TiAlN薄膜组织结构及性能的研究

摘要：

本文采用射频磁控溅射法在硬质合金钻头表面制备了TiAlN薄膜.XPS测试表明,膜层的主要成分为金属氮化物,Ti/Al原子个数比约为1:1;XRD分析表明膜层中只出现Ti3AlN的衍射峰,并且在(220)上有明显的择优取向;SEM测试表明所制备的薄膜连续、光滑、组织致密;硬度测试显示薄膜硬度HV最高达到2 465;膜/基界面的结合力经测定为42.12 N.

关键词：TiAlN薄膜、磁控溅射、组织结构、性能

所属期刊栏目：26

分类号：TG1;TQ4

在线出版日期：2010-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：218-222