10.3969/j.issn.1003-7292.2008.03.012
TiAlN硬质薄膜/涂层材料的研究进展
概述了TiAlN硬质薄膜,涂层材料的基本性质、应用及制备技术的发展.介绍了国内外利用磁控溅射法(MS)、空心阴极离子镀(HCD)、多弧离子镀等镀膜工艺制备删硬质薄膜材料的最新研究进展.TiAlN薄膜应用于切削加工、航空、航天和模具中的优良性能.
TiAlN硬质薄膜、制备方法、性能、应用
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TG1;TB4
2008-11-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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