10.3969/j.issn.1003-7292.2007.04.004
铁刻蚀CVD金刚石膜辅助机械抛光
采用直流溅射方法在化学气相沉积(CVD)金刚石膜表面镀上一层铁薄膜,在氢等离子体条件下利用铁对金刚石膜的快速刻蚀实现初抛光,然后再进行机械抛光,提高抛光效率.
CVD、金刚石膜、微波等离子体、刻蚀、抛光
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TG1(金属学与热处理)
湖北省科技攻关项目2002AA105A02;湖北省高等学校优秀中青年科技创新团队计划
2008-05-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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