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10.3969/j.issn.1003-7292.2005.03.004

镧热还原氧化钐过程硅、铝杂质的行为探讨

引用
对镧热还原氧化钐的反应产物镧渣,通过扫描电镜及X射线能谱仪对微区进行了显微观察和成分分析,结果发现:还原剂金属镧带入的杂质硅、铝在局部富集,并且在一定温度范围内与还原剂金属镧和还原产物金属钐生成同份熔化化合物,对镧的扩散还原和钐的扩散蒸发产生了一定的阻碍作用,影响了单炉次金属钐回收率的提高.分析讨论了杂质硅、铝在镧热还原氧化钐过程中的行为及局部富集的原因.

镧热还原、硅、铝、富集、同份熔化、钐收率

22

TG14(金属学与热处理)

2005-10-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

141-145

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1003-7292

43-1107/TF

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2005,22(3)

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