10.3969/j.issn.1003-7292.2000.04.010
硬质合金基体上金刚石膜的XRD研究
采用直流等离子体射流CVD法在硬质合金(WC+8wt.%Co)基体上生长金刚石膜,主要借助XRD分析方法对CVD金刚石膜的微观结构和残余应力进行了研究,探讨了CVD金刚石膜中残余应力的形成及其对金刚石膜粘附性能的影响。研究结果表明:CVD金刚石膜中通常存在GPa数量级的残余压应力,膜中存在适中的残余压应力,有利于CVD金刚石膜获得最佳的粘附性能。
金刚石膜、微观结构、残余应力、粘附性能
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TG13(金属学与热处理)
广东省博士启动基金;广东省高教厅科研项目
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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