强光胁迫下外源NO对霍山石斛叶绿素荧光和抗氧化系统的影响

摘要：

以兼性景天酸代谢(CAM)植物霍山石斛(Dendrobium huoshanense C.Z.Tang et S.J.Cheng)为材料,研究强光胁迫条件下,外源NO对其叶绿素荧光和抗氧化系统的影响.结果表明:0.1mmol·L-1硝普钠(SNP)处理提高了其光合系统Ⅱ(PSⅡ)的光能转换效率和潜在活性,增加了过剩光能的非光化学耗散,缓解了光抑制的发生,同时通过增强抗氧化系统的活性氧清除能力,有效保护了光合机构免受强光胁迫的伤害,PSⅡ反应中心得以较快恢复.而经0.5 mmol·L-1SNP处理后,霍山石斛的光能转换系统未能通过有效的光能转换和非光化学反应耗散过剩的光能,降低了抗氧化系统中SOD、POD和CAT的活性,加剧了PSⅡ反应中心光抑制的发生.

关键词：霍山石斛、一氧化氮、强光胁迫、PSⅡ

所属期刊栏目：35

分类号：S682.31(观赏园艺（花卉和观赏树木）)

资助基金：安徽省教育厅自然科学基金重点项目2006KJ054A

在线出版日期：2008-11-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1215-1220